確保了設計師們能夠同時解決系統性的和隨機性的工藝過程偏差。通過減少對諸如片上差異(on-chip variation)等防護頻帶(guard-banding)技術的依賴,以及對更高良率單元的選擇指導,因此SiliconSmart DFM 能夠幫助設計師們大幅度地提高良率。