光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備，用于將設(shè)計(jì)好的電路圖案“印制”到硅片上，是創(chuàng)建微小而精確電路結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵。它利用光學(xué)原理，通過光源、凸透鏡、光刻膠和控制系統(tǒng)等組件，將掩膜上的圖案投射到硅片表面。具體來說，光刻機(jī)開啟時(shí)，激光器發(fā)出的光源經(jīng)過一系列透鏡和反射鏡，將掩膜上的圖案“投影”到硅片上，這一過程需要極高的精度控制，因?yàn)槊總€(gè)芯片都由數(shù)以億計(jì)的晶體管組成，且每個(gè)晶體管的尺寸都在微米級(jí)別甚至更小。

光刻機(jī)技術(shù)的發(fā)展面臨諸多挑戰(zhàn)，如極小制程尺寸、EUV技術(shù)難題、生產(chǎn)效率、成本以及鏡頭制造技術(shù)等。隨著摩爾定律的推動(dòng)，芯片制程尺寸越來越小，光刻機(jī)必須不斷適應(yīng)新的光學(xué)技術(shù)和材料，以實(shí)現(xiàn)更高的分辨率。目前，EUV光刻機(jī)是制造先進(jìn)芯片的主要技術(shù)，但面臨光源功率不足、設(shè)備復(fù)雜性高等挑戰(zhàn)。

光刻機(jī)種類繁多，根據(jù)使用的光源和操作方式不同，可分為接觸式、接近式、投影式等。其中，投影式光刻機(jī)是目前最常用的一種，又可分為步進(jìn)式和掃描式兩種。全球光刻機(jī)制造商主要有荷蘭ASML公司、日本尼康公司和CANON公司等，這些公司的技術(shù)水平處于全球領(lǐng)先地位。