二次電子是指當物體受到高能粒子或光子的轟擊后，從其表面釋放并逸出的電子。在電子顯微鏡成像技術中，二次電子被用作電荷感應探針，是獲得高分辨率圖像的關鍵。

1. 二次電子的定義
   二次電子是在某種刺激下，從物體表面釋放出來并彈射走的電子。這些電子是電子顯微鏡成像技術中的重要組成部分，能夠實現對樣品表面的高分辨率成像。通過調控粒子束的能量和入射角度等參數，可以獲得對樣品表面高分辨率的成像效果。

2. 二次電子的產生和潛在影響
   二次電子的產生是由高能粒子或光子與物體表面原子的相互作用引發的。在電子顯微鏡成像技術中，常使用高能電子轟擊樣品表面來產生二次電子。然而，高能電子轟擊可能會損傷樣品表面甚至氧化樣品，因此需要在選擇實驗條件時加以注意，并采取適當的保護措施以避免不良影響。

3. 二次電子成像的原理和應用
   二次電子成像技術是通過測量二次電子所帶來的電荷感應信號來實現成像的。當高能電子轟擊樣品表面時，會產生一系列次級電子，其中包括二次電子和背散射電子。二次電子具有表面靈敏性和高分辨率特點，因此被廣泛應用于各種表面形貌和材料性質的研究領域。在材料科學、納米電子學、生物醫學等領域，二次電子成像技術都具有極其重要的應用價值。