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2020年10月19日 | 半導體自主化之路,光刻機該如何破冰

發(fā)布者:Changsheng520 來源: 集微網(wǎng)關(guān)鍵字:光刻機 手機看文章 掃描二維碼
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懂王不僅讓我們懂得了半導體自主化的重要性和迫切性,更激發(fā)上下一心要在諸多“卡脖子”領(lǐng)域突破重圍。其中,光刻機無疑是重中之重。作為半導體產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠,作為半導體制造最不可或缺而又最觸不可及的光刻機,到底又該如何破冰?近日日經(jīng)指出,有關(guān)人士表示中國企業(yè)擬向兩家日本公司尼康、佳能提供資金,要求共同開發(fā)除EUV以外的新型光刻機,這真的可行嗎?                             

 

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可行性

 

對于這一問題,某投資機構(gòu)負責人付輝(化名)認為,這看上去是可行的。日本有和中國合作的迫切欲望,雖然日本是美國的代理人是事實,但這不是合理的,日本真的不想一直做一個“非正常國家”。日本也想在半導體領(lǐng)域提升競爭力,而且日本的尼康、佳能在光刻機領(lǐng)域亦有多年的積累和實力。

 

通過注資來共同開發(fā)其實已有先例。成為光刻機霸主的ASML在早些年的研發(fā)過程中也遇到一些挑戰(zhàn),而臺積電英特爾后來的注資也起到雙贏的作用。

 

因而,集微咨詢高級分析師陳躍楠分析,從技術(shù)上來說,日本尼康和佳能以前也是光刻機的巨頭,只是在EUV光刻機與全球霸主ASML還有差距,如果中日雙方通過談判能達成協(xié)議,實現(xiàn)某種利益平衡,還是可行的。從產(chǎn)業(yè)的角度,入股之后可以派工程師學習,或加強人才方面的交流,這是沒有捷徑可走的。

 

盡管面臨中美科技走向脫鉤的形勢,陳躍楠仍認為,從政治上考量,盡管日本名義上是美代理人,但日本也不會完全聽命于美,中國市場對日本來說是一個巨大的市場,不止是光刻機,還有其他諸多電子類業(yè)務(wù),雙方的合作是互惠互利的,所以未必這一合作行不通。即便經(jīng)濟全球化走向遇阻,但任何國家恐也難以將整個桌子掀翻。

 

要注意的是,應(yīng)盡量不要采取以具體項目開發(fā)的形式。付輝進一步指出,因為這會隨時都會被美按下“中止鍵”。在中美科技脫鉤開始實施的形勢下,這種形式不太現(xiàn)實。付輝提出的建議是,光刻機的開發(fā)要積數(shù)年之功,而在這一長周期內(nèi),可以與日本共研,我們支付技術(shù)顧問費,以我為主,這是合適的。同時,要加強基礎(chǔ)科研的合作與探索,科學是無國界的。

 

而這一消息的另一重點是研發(fā)非EUV光刻機,顯然,DUV是更適合國內(nèi)市場現(xiàn)狀與需求的選擇。業(yè)界知名專家程睿(化名)表示,除EUV外,通常DUV光刻機最先進可以做到7nm,目前全球EUV才銷售了50臺,說明絕大多數(shù)都是非EUV。國內(nèi)產(chǎn)線大都集中在成熟工藝,DUV光刻機可謂量大面廣。只是DUV在7nm工藝相比EUV步驟繁瑣,需多次曝光。

 

重重考驗

 

需要曲線救光刻機的背后核心是,光刻機為何這么難?

 

因為光刻機是先進工藝制程持續(xù)進階必不可缺的重要支點,而且可說是地球上最復雜的精密設(shè)備之一。ASML最新型號的一臺光刻機的10萬個精密零件來自全球5千多家供應(yīng)商,所需的蔡司鏡頭更需要幾十年的技術(shù)沉淀和不斷測試才能滿足高要求。ASML全球副總裁、中國區(qū)總裁沈波表示,這意味著單單依靠ASML也不足以解決半導體制造的問題,其早已是全球化精細合作的結(jié)果,更需要全球產(chǎn)業(yè)鏈的整合。

 

最近ASML公布第三季度財報時ASML 總裁兼首席執(zhí)行官Peter Wennink表示,第三季度的新增訂單達到29億歐元,其中5.95億歐元來自4臺EUV設(shè)備。由此可算出,一臺EUV的售價已接近1.49億歐元,絕對是高精尖的集大成者。

 

而翻看霸主ASML登頂?shù)倪^程,會發(fā)現(xiàn)它的絕地反擊,不只是“定位精準”和“唯快不破”理念的執(zhí)著,并不斷加以開放和進取的“營養(yǎng)”,其崛起的背后更是一場地地道道的美國式成功。先是在技術(shù)路徑押注浸潤式光刻機以小博大,成功逆轉(zhuǎn)。而之后站在EUV LLC的肩膀上,背靠美國的支持,而對手尼康被排擠出局,之后ASML更成為英特爾連同三星和臺積電大客戶的利益共同體,自此在摘取EUV光刻機這顆寶石的道路上成功問鼎。

 

更重要的是,ASML的多年奮戰(zhàn),培養(yǎng)了一大批專業(yè)人才,將近2.5萬名員工將全球100多個國家的專家、學者、工程師成為ASML最重要的核心資產(chǎn)。

 

還需要指出的是,ASML的EUV光刻機經(jīng)過數(shù)年之功,才真正完備且產(chǎn)業(yè)化成功。

 

可以說,國內(nèi)面臨的不止是技術(shù)、工業(yè)化能力的差距,更是對基礎(chǔ)科研、機制、人才、長期價值觀等全方位的考驗。

 

一些業(yè)內(nèi)人士呼吁:國內(nèi)要想在光刻機領(lǐng)域破局,首先要尊重技術(shù)規(guī)律,如果片面強調(diào)舉國體制、政策、資本的作用,以為能夠大躍進式地造出光刻機,那結(jié)果必然是四處碰壁。其次,在以國內(nèi)大循環(huán)為主體、國內(nèi)國際雙循環(huán)相互促進的新發(fā)展格局指引下,要明了外部循環(huán)仍然至關(guān)重要。對外開放的大門永遠不能關(guān)上,芯片業(yè)千萬不能脫離全球創(chuàng)新鏈。最后,芯片之戰(zhàn)已成為人才之戰(zhàn),特別是在基礎(chǔ)研究教育層面要大刀闊斧革新,至少要花十年以上時間來彌補,基礎(chǔ)研究體制機制的內(nèi)省和改革更是刻不容緩。

 

無論如何,Plan B也必不可少。國內(nèi)光刻機的突破當然希望有外力幫助,但也要認清現(xiàn)實,目前想要外購的可能性太低,尤其是禁運封鎖在不斷升級。

 

程睿認為,光刻機是國內(nèi)半導體的一大關(guān)口,要想擺脫受制于人的被動局面,唯有一條路可走,那就是自研自產(chǎn),盡管十分艱辛,要以數(shù)年時間為計。但國產(chǎn)化是敲門磚,如果光刻機都突破不了,那其他半導體設(shè)備就更只能依賴進口了,這個難關(guān)一定要攻下。他舉例說,國內(nèi)刻蝕機研發(fā)成功后,美馬上放松出口設(shè)備許可,實力才是真正的通行證。

 

提防競爭陷阱

 

既然決定要仰望光刻機的“星空”,那么路就在腳下。在這一過程中,更要提防的是競爭陷阱。

 

中制智庫研究院院長新望發(fā)表文章表示,需要提防類似芯片這樣的競爭陷阱,成為中國國力的消耗戰(zhàn)。什么是競爭陷阱?就是當我們利用舉國之力不惜代價把產(chǎn)業(yè)水平和西方追趕差不多的時候,西方突然放開市場,那么所有不惜代價的投資豈不打了水漂。芯片是這樣,上面列舉的所有卡脖子的行業(yè)都如法泡制一遍,那對整個中國國力將是巨大的消耗。競爭陷阱,不可不防。

 

程睿解讀說,當中國即使70%國產(chǎn)化達到時,美國放松管控,那么大量IC進口,價格低、性能更好,那么這個所謂的70%可能一大半成“無用功”。因此,國產(chǎn)化關(guān)鍵是質(zhì)量取勝,提升競爭力,保證最基石的能力及本事。

 

從目前來看,美方名義上一方面全方位遏制華為,另一方面也在不斷平衡利益,讓英特爾、AMD等出口部分芯片,以及臺積電提供28nm及以上節(jié)點代工等。程睿提及,這目的是讓中國半導體總存有希望,導致國產(chǎn)化動力不足,這是對方的策略。因而反過來說,如果中國投資尼康、佳能合作開發(fā)出光刻機,有可能造成國內(nèi)光刻機的國產(chǎn)化之路更加艱辛。

 

這真的是脆弱與反脆弱的兩難選擇。

關(guān)鍵字:光刻機 引用地址:半導體自主化之路,光刻機該如何破冰

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