在進入21世紀后中國的光刻膠在其原來落后的基礎上開始走入一個增長期,特別是2012年以后這個增長速度在加快,2012年時中國做光刻膠的只有五家:蘇州瑞紅、濰坊星泰克、中科院化學所、北師大與北京科華;而到了2017年,中國的光刻膠企業增長到15家之多。看到這樣的急速增長,我們喜憂參半,喜的是有越來越多的企業參與光刻膠的工作,中國光刻膠的春天到了;憂的是這是一個冷僻的行業,在全球的市場不足15億美元,在中國2017年也就是20億元人民幣左右的市場,真需要這么多企業投入嗎?更可悲的是這20億元的市場中高檔膠占了14多億元,而目前只有北京科華一家有產品投放市場。也就是說,目前中國的十幾家光刻膠公司(其中不乏上市公司),只是在5億元的市場中廝殺。
隨著光刻膠檔次的提高,光刻膠企業數量呈驟減趨勢。上世紀90年代,光刻膠走入化學增幅也就是進入高檔光刻膠之前,由于光刻膠的豐厚利潤,從事的企業近百家;隨著上世紀末本世紀初光刻膠進入化學增幅也就是我們俗稱的CAR體系,光刻膠企業的投入呈十倍以上的增長,真正投入建設光刻膠高檔線的只有六家,后來北京科華在國家02重大專項的支持下建設了第七條高檔KrF(248nm)光刻膠產線,也同時走入了國際同行的視野,被納入到光刻膠排名前十的企業中。
中國與國際光刻膠的差距就是ArF(193nm)光刻膠產線的建設,目前國內多家企業有此計劃,但是以中國目前不到10億元的ArF(193nm)光刻膠市場來看,建設一條產線足矣。當然中國目前處在集成電路飛速發展的時期。據國家制造強國建設戰略資訊委員會的估算,中國集成電路市場占全球的1/3,增速是全球平均速度的3倍,10年以后,中國集成電路市場將進一步達到全球的45%。面對龐大的市場增量中國的光刻膠該如何彌補差距快速發展呢?
中國政府有巨大的資金支持集成電路的發展,應該有條件整合目前的散、亂、小,努力促進材料的縱橫雙向發展;首先要打通相關的供應鏈,2017年已經有多家光刻膠原材料企業希望與北京科華合作,北京科華也決心在2018年加大與國內原材料企業合作的力度,爭取在縱向發展上與上下游的合作有所進展;而要做到工藝、設備、材料三位一體發展,則需要創造更多的條件。首先需要整合出一個具有規模的Fab,更需要我們的設備廠商努力向中微半導體設備公司看齊,跟上國際發展的步伐,這樣我們才具備三位一體發展的基本條件。
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史海拾趣
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